來源：新浪VR

三星一向喜歡宣傳自己在內(nèi)存芯片方面的進展，但這一次它取得顯著突破。三星正開始量產(chǎn)16g的LPDDR5移動內(nèi)存芯片，這是有史以來第一個使用極端紫外線光刻技術制造的內(nèi)存，這種技術使用激光和光敏化學物質來蝕刻硅。這一突破將為該行業(yè)提供更大的增長空間。

這項突破會轉化為一些直接的現(xiàn)實收益。6.4Gbps的帶寬比以前的12千兆的芯片快16%，而16GB的芯片要薄30%。這可能會使手機變得更薄，或為電池和相機等部件提供空間。

三星稱，這款新內(nèi)存非常適合旗艦級智能手機，包括其競爭對手的手機。采用這種內(nèi)存的手機會有更多空間來處理同時運行的應用程序。不過，三星也希望將LPDDR5引入更多的車載技術。